中国光刻机突破到哪一步了? 德国专家“比预期快了至少5年

  • 2025-08-17 21:47:17
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“即使公开图纸,你们中国人也永远不可能造出EUV光刻机”。

三年前,ASML公司的CEO就曾傲慢断言,这句话也深深刺痛了中国工程师们!说起芯片这事儿,相信每一位科技工作者心里都憋了一口气。从2019年开始,老美就利用芯片技术优势,多次对中国芯进行打压和制裁,屈辱、愤怒且无奈,各种情绪交织,令人难受至极。

但正是因为有这些恶语的激励,中国科学家们迎难而上,专注技术研发,终于在光刻机领域取得了一定的成果。除了科技企业外,国内高校、科研机构也加入这场恶战,有技术给技术,有钱给钱,不夸张的说,举国之力就是要攻克芯片难题。

而哈工大作为国内高校的代表,也交出了高分答卷。早在2022年,哈工大科研团队就已经整出了光源样机,且时隔一年,又完成了原型机的研发。而在2024年上半年则快速通过了关键测试。虽然目前咱们还没能研发出EUV光刻机,但哈工大的进度已经相当快了,未来可期!

具体的,2022年秋,哈工大团队首次点亮DPP(放电等离子体)光源样机时,现场工程师们红着眼眶拍下的视频,至今仍在半导体行业群里流传。当时那束光的功率仅能满足原理验证,但已经让项目负责人李教授在汇报时声音发抖:“我们终于有了自己的EUV种子。”

选择DPP而非国际主流的LPP(激光等离子体)路线,是典型的中国式智慧。LPP需要高能二氧化碳激光器,相关技术被锁死在德国通快手里,中国想要完成超越,很难走通,这需要耗费大量的时间、精力和资金,中国耗不起。而DPP就像电动车对燃油车的弯道超车,虽然起步难,但能绕过专利墙,属于换道超车!

到2024年初,与国仪超精密集团共建的11亿元产线开始试运行,这台“庞然大物”已能稳定输出30瓦功率。尽管距离ASML的250瓦商用标准仍有差距,但足以支撑原型机通过关键测试。德国蔡司工程师私下交流时也承认了:“中国人解决电极腐蚀的速度,比我们预估的快了至少五年。”

不止哈工大,还有清华大学、北境航空航天大学等也在努力钻研,清华大学薛其坤团队正在尝试更颠覆的路径——稳态微聚束(SSMB)光源。这种同步辐射光源理论上能提供更高功率,且完全避开传统EUV的技术路线。

而在北京航空航天大学则在研究“三元计算芯片的架构图”。如果中国继续和西方在二进制赛道死磕?胜算并不大,但如果专注于三角形电路设计,或许有更大的机会。毕竟在触控和航天领域,我们的三值逻辑芯片能耗只有传统芯片的40%。

这些看似分散的技术突破,正构成中国半导体突围的“组合拳”。就像当年航天领域从长征五号失利到空间站建成,芯片产业的突围注定是场多线作战的持久战。相信在教、研、企的三强联手下,我们必定可以创造奇迹。